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真空渗碳
真空渗碳
低(di)压真空渗碳(tan)是在低(di)压真空状态下,通过(guo)(guo)多(duo)次强渗+扩(kuo)(kuo)散(san)(san)过(guo)(guo)程,以(yi)达到零件(jian)渗层(ceng)深(shen)度要(yao)求(qiu)的(de)(de)工艺过(guo)(guo)程,其控(kong)制方法为“饱和值调(diao)整(zheng)法”。即在强渗期使(shi)奥氏体固溶碳(tan)饱和,在扩(kuo)(kuo)散(san)(san)期固溶的(de)(de)碳(tan)向内(nei)部扩(kuo)(kuo)散(san)(san)到目标的(de)(de)要(yao)求(qiu)值,通过(guo)(guo)调(diao)整(zheng)渗碳(tan)、扩(kuo)(kuo)散(san)(san)时间(jian)比,达到控(kong)制表(biao)面(mian)碳(tan)浓度和渗碳(tan)层(ceng)深(shen)度的(de)(de)目的(de)(de)。
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发布时间:2018-11-29 00:00:00

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