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真空渗碳
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低压(ya)真(zhen)空渗(shen)碳(tan)是在(zai)(zai)低压(ya)真(zhen)空状态下,通过(guo)(guo)多次强(qiang)渗(shen)+扩散过(guo)(guo)程,以(yi)达(da)到(dao)零件渗(shen)层深度(du)要求的(de)(de)工艺过(guo)(guo)程,其(qi)控制方法(fa)为“饱和值调整(zheng)法(fa)”。即在(zai)(zai)强(qiang)渗(shen)期(qi)使(shi)奥氏(shi)体固(gu)溶(rong)碳(tan)饱和,在(zai)(zai)扩散期(qi)固(gu)溶(rong)的(de)(de)碳(tan)向内部扩散到(dao)目(mu)标的(de)(de)要求值,通过(guo)(guo)调整(zheng)渗(shen)碳(tan)、扩散时间(jian)比,达(da)到(dao)控制表面碳(tan)浓(nong)度(du)和渗(shen)碳(tan)层深度(du)的(de)(de)目(mu)的(de)(de)。
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发布时间:2018-11-29 00:00:00

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